초음파 세척 시스템용 고순도 DI Water
초음파 세척기용 탈이온수 생성기는 초음파 세척 공정에 사용되는-고순도 탈이온수(DI)를 생산하도록 설계된 특수 정수 시스템입니다. 용해된 미네랄, 염분 및 이온 오염물질을 제거함으로써 이 시스템은 얼룩-, 잔류물{3}} 없는 세척 결과를 보장하므로 정밀 세척 응용 분야에 이상적입니다.
초음파 세척은 고주파-캐비테이션 버블을 사용하여 섬세한 표면에서 오염 물질을 제거합니다. 일반 수돗물을 사용하면 청소 후 미네랄 침전물이나 잔류물이 남을 수 있으며, 이는 제품 품질에 영향을 미칠 수 있습니다. DI 수 생성기는 이러한 불순물을 제거하고 일관되고 고품질의 세척 성능을 보장합니다.-
초음파 세척에 탈이온수를 사용하는 이유는 무엇입니까?
초음파 세척 시스템에 DI 수를 사용하면 다음과 같은 몇 가지 주요 이점을 얻을 수 있습니다.
- 초음파 세척 후 잔여물-없이 헹굼
- 부품의 광물 침전물 및 물 얼룩을 방지합니다.
- 초음파 캐비테이션의 세척 효율성 향상
- 정밀 부품과 민감한 표면을 보호합니다.
- 일관된 청소 품질 보장
탈이온수는 고정밀 세척 기준이 필요한 산업에 특히 중요합니다.-
시스템 작동 원리
탈이온수 생성기는 일반적으로 초음파 세척 시스템의 안정적인 수질을 보장하기 위해 여러 정화 단계를 포함합니다.
전처리 여과
침전물 및 활성탄 필터는 부유 입자, 염소 및 유기 화합물을 제거하여 정화 시스템을 보호합니다.
역삼투압(옵션)
RO 시스템은 용해된 고형물을 최대 95~99% 제거하여 TDS를 줄이고 DI 수지의 수명을 연장합니다.
탈이온화(DI)
이온 교환 수지는 남아 있는 이온 오염 물질을 제거하여 초음파 세척 용도에 적합한 전도도가 낮은 물을 생성합니다.-
일반적인 수질
- 전도도:< 1~10μS/cm
- 총 용존 고형물(TDS):< 1~5ppm
- 경도:거의 0에 가깝다
- 미네랄 잔류물:없음
이렇게 하면 초음파 세척 후에도 표면이 깨끗하게 유지되고 얼룩이 생기지 않습니다.
응용
탈이온수 생성기는 다음 분야에서 초음파 세척 시스템과 함께 널리 사용됩니다.
- 전자제품 및 PCB 청소
- 정밀 부품 제조
- 광학 및 유리 부품 세척
- 자동차 부품 청소
- 의료기기 세척
- 실험실 장비 청소
- 주얼리 및 시계 부품 청소
주요 특징
- 초음파 세척 시스템용 고순도-DI수 생산
- 미네랄 잔여물 및 워터스팟 방지
- 세척 효과 및 표면 품질 향상
- 컴팩트하고 확장 가능한 시스템 설계
- 더 높은 순도를 위한 RO + DI 구성 옵션
- 수질 관리를 위한 온라인 전도도 모니터링
초음파 세척을 위한 안정적인 물 공급
초음파 세척기용 탈이온수 생성기는 초음파 세척 시스템이 고순도수로 작동하여 일관되고 잔류물이 없는- 세척 결과를 제공하도록 보장합니다. 미네랄 오염을 제거함으로써 시스템은 제품 품질을 향상시키고 민감한 구성 요소를 보호하며 초음파 세척 작업의 효율성을 향상시킵니다.
성공사례



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