설명

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광-전자공학용 초순수 시스템은 광학 장치, LED 및 레이저 생산에 최고 품질의 물이 중요한 광-전자 산업을 위해 특별히 설계되었습니다. 광{3}}전자공학 제조에서는 아주 작은 불순물이라도 장치 성능, 신뢰성 및 효율성에 영향을 미칠 수 있습니다. 역삼투(RO)와 전기탈이온화(EDI) 기술을 결합한 이 첨단 정수 시스템은 저항 수준이 18.2 MΩ·cm 이상인 초순수(UPW)를 생산하여 광{6}}전자공학 생산에 요구되는 엄격한 표준을 충족합니다.

주요 특징

고순도 물 생산:

The system provides ultrapure water that meets the exacting purity standards of the opto-electronics industry. Water is purified to resistivity levels of >18.2 MΩ·cm로 LED, 레이저 다이오드, 광섬유 등의 광학 부품 생산 시 성능에 영향을 미칠 수 있는 오염 물질이 없도록 보장합니다.

2-단계 여과 과정:

역삼투압(RO): 첫 번째 단계에서는 RO 멤브레인을 사용하여 용해된 고형물, 유기 화합물 및 오염 물질을 최대 99%까지 제거합니다. RO 여과는 총 용존 고형물(TDS)을 크게 줄여 물을 추가 정화에 적합하게 만듭니다.

전기탈이온화(EDI): RO 후 EDI 기술을 사용하여 물을 추가로 탈이온화하고 나트륨, 칼슘, 염화물과 같은 잔류 이온을 제거하여 화학 물질을 사용하지 않고도 물에 오염 물질이 없도록 보장합니다.

화학적-무료 재생:

EDI 재생은 전기장을 사용하여 이온 교환 수지를 재생하므로 화학 물질이 필요하지 않으므로 기존 이온 교환 시스템보다 환경 친화적이고 비용이-효율적입니다.-

최종 순도를 위한 연마 필터:

시스템에는 남은 입자, 유기 화합물 또는 미생물을 제거하여 광{0}전자공학 제조 공정에 필요한 최고 수준의 순도를 제공하는 연마 필터와 UV 살균기가 포함될 수 있습니다.

지속적인 수질 모니터링:

저항률, 총유기탄소(TOC), 실리카 및 미립자 수준과 같은 주요 매개변수에 대한 실시간 모니터링 기능을 갖춘 이 시스템은 물이 광전자 제조의 엄격한 요구사항을 일관되게 충족하도록 보장합니다.-

광-전자제품 제조 분야의 애플리케이션

1. 광학 부품의 청소:

웨이퍼 세척: LED 웨이퍼 및 레이저 다이오드와 같은 광{0}}전자 장치는 성능과 효율성을 저하시킬 수 있는 오염을 방지하기 위해 세척용 초순수를 필요로 합니다.

렌즈 및 기판 세척: 초순수는 광학 렌즈, 기판 및 기타 민감한 구성 요소를 세척하여 불순물, 먼지 또는 입자가 없는지 확인하는 데 사용됩니다.

2. 레이저 및 LED 생산:

레이저 다이오드와 LED를 제조하는 동안 에칭, 헹굼, 냉각과 같은 공정에 물이 필요합니다. 초순수는 오염 물질이 장치의 성능, 광학 특성 또는 수명에 영향을 미치지 않도록 보장합니다.

3. 정밀 린싱 및 에칭:

초순수는 광섬유 및 기타 고성능 광전자 부품 생산에 중요한 정밀 헹굼 및 에칭 공정에 필수적입니다. 불순물로 인한 오염은 이러한 공정의 정밀도와 수율에 부정적인 영향을 미칠 수 있습니다.

4. 냉각 시스템:

물은 광-전자공학 제조 장비의 냉각 시스템에도 사용됩니다. 초순수는 냉각 루프의 스케일링과 부식을 방지하여 고온-장치 및 시스템의 일관된 성능을 보장합니다.

Opto-전자공학을 위한 초순수 시스템의 장점

우수한 수질:

광학 부품, LED 및 레이저 제조에 사용되는 물에 장치 성능, 무결성 및 수명에 영향을 미칠 수 있는 오염 물질이 없는지 확인합니다.

지속 가능성:

EDI 기술의{0}}화학물질 없는 재생 프로세스는 화학물질의 필요성을 제거하여 환경에 미치는 영향을 줄이는 동시에 시스템은 높은 물 회수율을 통해 폐수 배출을 최소화합니다.

비용 효율성:

화학적 재생이 필요하지 않고 유지 관리 필요성이 적기 때문에 더 자주 개입해야 하는 기존 이온 교환 시스템에 비해 시스템이{0}}비용 효율적입니다.-

신뢰할 수 있고 일관된 수질:

저항률, TOC, 실리카 및 입자 수를 지속적으로 모니터링하여 일관된 수질을 보장하며 이는 고정밀-광학-전자공학 제조 공정에 필수적입니다.

오염 위험 감소:

유해한 이온, 미생물 및 입자를 모두 제거함으로써 시스템은 광학 및 전자 부품 제조 과정에서 오염이 발생하지 않도록 보장하여 제품 수율을 향상시키고 결함을 줄입니다.

Opto-Electronics용 초순수 시스템 사양

비저항	>18.2MΩ·cm
TDS(총용존고형물)	<10-20 ppm
규토	<0.05 ppm
TOC(총유기탄소)	<10 ppb
미립자 오염물질	<1 ppb
유량	일반적으로 다음과 같은 범위에서 사용자 정의 가능5m³/시에게100m³/시, 생산 규모에 따라 다름

광-전자공학용 초순수 시스템은 LED, 레이저 다이오드, 광섬유 및 기타 중요 부품 생산에 사용되는 물이 최고 순도 기준을 충족하는지 확인하는 데 필수적인 솔루션입니다. 이 시스템은 제품 품질과 생산 효율성을 향상시킬 뿐만 아니라 보다 지속 가능하고 비용 효율적이며 환경 친화적인 제조 공정에 기여합니다.{2}}