개요

광학 유리용 초음파 세척 장비는{0}}렌즈, 프리즘, 필터 및 유리 기판과 같은 섬세한 광학 부품을 위해 특별히 설계된 고정밀 세척 시스템입니다. 제어된 세척 환경과 결합된 고급 초음파 캐비테이션 기술을 활용하는 이 장비는 민감한 광학 표면을 긁거나 손상시키지 않고 먼지, 연마 잔여물, 오일 및 미세한 오염 물질을 효과적으로 제거합니다.
광학 제조, 반도체 및 정밀 공학 산업을 위해 설계된 이 시스템은 고성능 광학 응용 분야에 필요한 일관된 고순도 세척 결과를-제공합니다.

작동 원리

이 장비는 특별히 제조된 세척 용액 내에서 고주파 초음파(일반적으로 40kHz~80kHz 이상)를 생성합니다.{0}} 이러한 파동은 광학 유리 표면에서 부드럽게 붕괴되는 미세한 캐비테이션 기포를 생성하여 표면 마모를 일으키지 않고 오염 물질을 제거합니다.
더 높은 주파수(예: 80kHz 이상)는 더 미세한 캐비테이션을 생성하므로 미세한 손상도 피해야 하는 섬세한 광학 표면을 청소하는 데 이상적입니다.

주요 특징

고주파-정밀 청소

주파수 옵션: 40kHz / 80kHz / 120kHz
미세한 캐비테이션으로 섬세한 광학 표면을 안전하게 청소할 수 있습니다.
균일한 초음파 분포로 국부적인 손상 방지

다단계 청소 시스템-

초음파 세척 탱크
탱크 린스(DI water 린스)
건조 시스템(열풍, 진공 또는 클린룸 건조)
선택적 자동 전송 시스템

울트라-클린 공정 제어

탈이온수(DI)수 및 특수 광학 세척 솔루션과 호환 가능
잔여물이 없는- 세척 및 높은 표면 순도 보장

온도 조절 시스템

조정 가능한 온도(일반적으로 20도 – 60도)
열 스트레스 없이 최적의 세척 조건을 유지합니다.

여과 및 순환 시스템

다{0}}단계 여과로 입자와 오염물질을 제거합니다.
지속적인 순환으로 일관된 청소 품질 보장
선택적 초순수 시스템 통합

클린룸-호환 설계

낮은-입자 방출 구조
클린룸 환경에 적합(ISO 클래스 호환성 옵션)

지능형 제어 시스템

터치스크린 인터페이스를 통한 PLC 제어
프로그래밍 가능한 세척 주기 및 프로세스 매개변수
온도 및 공정 조건의 실시간-모니터링

내구성이 뛰어난 스테인레스 스틸 구조

탱크 재질: SUS304 / SUS316 스테인레스 스틸
내부식성-및 고순도 환경에 적합-

응용

정밀 광학 및 하이{0}}기술 산업을 위해 설계되었습니다.

광학 제조

카메라 렌즈와 광학 렌즈
프리즘, 거울, 필터
유리 기판 및 광학 부품

전자 및 반도체

디스플레이 유리(LCD/OLED 패널)
반도체 웨이퍼 및 기판

실험실 및 연구

광학 기기 및 유리 제품
정밀 측정 부품

일반적인 사양

용량	맞춤형(10L – 200L+)
초음파 주파수	40kHz/80kHz/120kHz
초음파 전력	300W – 2000W+
온도 범위	20도 – 60도
청소 단계	2~5단계(맞춤형)
여과 정확도	최대 미크론-수준의 여과
탱크 재료	SUS304 / SUS316 스테인레스 스틸
제어 시스템	PLC 터치스크린
전원공급장치	220V / 380V, 50/60Hz

장점

민감한 광학 표면을 위한 손상 없는 세척-
미세한 오염물질과 연마 잔여물을 제거합니다.
높은 청결도와 광학적 선명도 보장
고정밀도 및 클린룸 환경에 적합-
제품 품질 및 수율 향상

옵션 기능 / 사용자 정의

초-고주파(120kHz~200kHz)
DI 수 생성 및 재활용 시스템
진공 건조 또는 IPA 증기 건조 시스템
로봇식 또는 컨베이어 이송 시스템
클린룸-등급 인클로저
입자 모니터링 시스템

패키지 포함

초음파 세척 장비 유닛
탱크 청소 및 헹굼
여과 시스템
건조 시스템(옵션)
제어 시스템(PLC + 터치스크린)
사용설명서

요약

광학 유리용 초음파 세척 장비는 섬세한 광학 부품에 대해 고도로 제어되고 정밀한 세척 솔루션을 제공합니다. 고주파-주파수 초음파 기술, 다단계 세척 기능, 클린룸-호환 설계를 통해 까다로운 정밀 산업에서 우수한 세척 성능, 향상된 제품 품질 및 안정적인 작동을 보장합니다.