폴리실리콘용 EDI 수처리 플랜트는 일반적으로 폴리실리콘 생산 및 관련 유틸리티에 초저이온수를 공급하는 데 사용되는 고순도/초순수(HPW/UPW) 시스템의 일부입니다.- 폴리실리콘 공장에서 EDI는 RO 이후 물을 매우 낮은 전도도까지 연속적으로 연마하기 위해 가장 자주 사용되며, 물이 사용되는 위치(프로세스 대 유틸리티)에 따라 추가 연마 단계가 추가됩니다.
폴리실리콘 공장에서 고순도-물이 사용되는 곳
일반적인 물 용도는 다음과 같습니다.
- 화학적 구성-/희석(예: 산/알칼리, 공정 화학물질)
- 청소/헹굼장비 및 일부 부품
- 스크러버(일부는 높은 순도가 필요하고 일부는 RO-투과를 사용할 수 있음)
- 보일러 공급/증기 시스템(종종 RO-EDI 또는 RO-EDI + 혼합 침대)
- 냉각 루프(종종 RO 또는 연수/여과수, 항상 UPW는 아님)
폴리실리콘 시설은 일반적으로 두 가지 품질의 헤더를 설계합니다.
- UPW/HPW중요한 공정 및 린스를 위한
- RO-투과/연화쿨링 메이크업, 워시다운 등과 같은 유틸리티용
폴리실리콘을 위한 일반적인 Edi 수처리 공장
일반적이고 강력한 구성은 다음과 같습니다.
1) 전처리(막 보호, 사료 안정화)
원수 → 멀티미디어/모래 필터 → 활성탄(또는 탈염소) → 연화제/스케일 방지제 투입 → 카트리지 필터(5 µm)
2) 담수화 + 연속 탈이온화
→ RO(종종 이중{0}}통과) → 탈기 장치(CO2 제거, 선택 사항이지만 일반적임) → EDI
3) 최종 연마(요구되는 순도에 따라 다름)
고순도-처리수를 위해 식물은 다음을 추가하는 경우가 많습니다.
→ UV(185/254nm) → 혼합층 폴리셔(최종 "트림") → UF/최종 멤브레인 필터 → 저장 탱크 → 재순환 루프 → 사용 지점
RO + EDI가 선호되는 이유(기존 DM과 비교)
- 연속 고순도(수지 소모 사이클 없음)
- 산/부식성 재생 없음(더 안전하고 화학물질 취급이 적음)
- 안정적인 전도성/비저항
- 기존 이온 교환에 비해 재생 폐수 감소
일반적인 수질 목표(실용 범위)
정확한 한도는 프로세스 및 고객 사양에 따라 다르지만 일반적인 목표는 다음과 같습니다.
RO + EDI 제품의 경우(최종연마 전)
- 전도도:~0.05~0.2μS/cm
- 저항력:~5–18 MΩ·cm(설계-에 따라 다름)
연마 후 "UPW/HPW"용(필요한 경우)
- 저항력:종종 근처에18.2MΩ·cm
- 실리카/붕소:매우 낮음(필요한 경우 ppb-수준)
- 목차:매우 낮음(필요한 경우 ppb-수준)
- 입자/박테리아:매우 낮음(UF + 최종 필터 + 루프 포함)
(주로 보일러 공급 및 일반 공정 희석을 사용하는 경우 전체 UPW 연마 트레인이 필요하지 않을 수도 있습니다.)
폴리실리콘 공장의 주요 설계 포인트(중요)
1. 실리카 및 붕소 제어
실리카 함량이 높으면 RO 회수 및 멤브레인 오염이 제한될 수 있습니다.
붕소는 제거하기가 더 어렵습니다. 이중-통과 RO 및 적절한 pH 전략에 도움이 됩니다.
2. CO2 탈기는 EDI를 향상시킵니다.
높은 용존 CO2는 EDI 부하를 증가시키고 저항 안정성을 감소시킵니다. 멤브레인 탈기기가 일반적입니다.
3. 재료 선택
EDI 후에는{0}}고순도 재료(사양에 따라 SS316L EP, PVDF/PFA/PP 등)를 사용합니다. 침출 및 부식을 피하십시오.
4. 루프 디자인은 스키드만큼 중요합니다.
지속적인 재순환, 최소한의 데드렉,{0}}적절한 탱크 통풍구 여과 및 위생 처리 전략으로 품질 변동을 방지합니다.
5. 계측 및 제어
온라인: 전도도/비저항, pH, ORP(사용된 경우), 유량/압력, 온도
UPW의 경우: TOC, 실리카, 용존 산소, 입자 수(필요한 경우)
이 4가지 세부 사항을 공유하시면 폴리실리콘용 EDI 정수장에 대한 최상의 구성을 지도해 드리겠습니다.
- 원수원 + TDS, 실리카, 붕소(알려진 경우)
- 필요한 제품 흐름(m³/hr)
- 최종 사용: 공정 희석/세척 vs UPW 중요 vs 보일러
- 모든 방전 제약(정상/제한/ZLD)
성공사례
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